发明授权
- 专利标题： Photosensitive composition and pattern forming process using same
- 专利标题（中）： 使用相同的光敏组合物和图案形成工艺
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申请号： EP86105341.1申请日： 1986-04-17
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公开(公告)号： EP0200110B1公开(公告)日： 1988-09-28
- 发明人: Morishita, Hajime , Nonogaki, Saburo , Hayashi, Nobuaki , Uchino, Shoichi , Nishizawa, Masahiro , Miura, Kiyoshi , Sasaya, Osamu , Tomita, Yoshifumi
- 申请人： HITACHI, LTD.
- 申请人地址： 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 JP
- 专利权人： HITACHI, LTD.
- 当前专利权人： HITACHI, LTD.
- 当前专利权人地址： 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 JP
- 代理机构： Beetz & Partner Patentanwälte
- 优先权： JP80128/85 19850417
- 主分类号： G03C5/00
- IPC分类号： G03C5/00 ; G03C1/60 ; H01J29/22
公开/授权文献
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