发明授权
- 专利标题： Verfahren zur Herstellung von Masken für die Röntgentiefenlithographie
- 专利标题（英）： Process for the production of x-ray masks
- 专利标题（中）： 生产X射线胶片的方法
-
申请号： EP86104299.2申请日： 1986-03-27
-
公开(公告)号： EP0212054B1公开(公告)日： 1990-06-20
- 发明人: Ehrfeld, Wolfgang, Dr. , Maner, Asim, Dr. , Münchmeyer, Dietrich, Dr.
- 申请人： KERNFORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH
- 申请人地址： Postfach 36 40 D-76050 Karlsruhe DE
- 专利权人： KERNFORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH
- 当前专利权人： KERNFORSCHUNGSZENTRUM KARLSRUHE GMBH
- 当前专利权人地址： Postfach 36 40 D-76050 Karlsruhe DE
- 优先权： DE3529966 19850822
- 主分类号： G03F1/00
- IPC分类号： G03F1/00
公开/授权文献
信息查询
