发明授权
- 专利标题: Polyvinylacetal, dieses enthaltendes lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
- 专利标题(英): Polyvinyl acetal, light-sensitive composition containing it and reproduction material made therefrom
- 专利标题(中): 聚乙烯醇,含有它的复合材料的光敏组合物
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申请号: EP87118277.0申请日: 1987-12-10
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公开(公告)号: EP0274075B1公开(公告)日: 1993-05-26
- 发明人: Pawlowski, Georg, Dr.
- 申请人: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 申请人地址: 65926 Frankfurt am Main DE
- 专利权人: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人地址: 65926 Frankfurt am Main DE
- 优先权: DE3644162 19861223
- 主分类号: C08F8/28
- IPC分类号: C08F8/28 ; G03C1/00 ; G03F7/00
公开/授权文献
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