发明授权

  • 专利标题: Polyvinylacetal, dieses enthaltendes lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
  • 专利标题(英): Polyvinyl acetal, light-sensitive composition containing it and reproduction material made therefrom
  • 专利标题(中): 聚乙烯醇,含有它的复合材料的光敏组合物
  • 申请号: EP87118277.0
    申请日: 1987-12-10
  • 公开(公告)号: EP0274075B1
    公开(公告)日: 1993-05-26
  • 发明人: Pawlowski, Georg, Dr.
  • 申请人: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
  • 申请人地址: 65926 Frankfurt am Main DE
  • 专利权人: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
  • 当前专利权人: HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
  • 当前专利权人地址: 65926 Frankfurt am Main DE
  • 优先权: DE3644162 19861223
  • 主分类号: C08F8/28
  • IPC分类号: C08F8/28 G03C1/00 G03F7/00
Polyvinylacetal, dieses enthaltendes lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
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