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    Optisches Bauelement auf Basis von Langmuir-Blodgett-Schichten
    2.
    发明公开
    Optisches Bauelement auf Basis von Langmuir-Blodgett-Schichten 失效
    Optisches Bauelement auf Basis von Langmuir-Blodgett-Schichten。

    公开(公告)号：EP0596325A1

    公开(公告)日：1994-05-11

    申请号：EP93116954.4

    申请日：1993-10-20

    申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Cabrera, Ivan, Dr. ,  Falk, Uwe, Dr. ,  Hickel, Werner, Dr. ,  Lupo, Donald, Dr. ,  Mayer, Andreas, Dr. ,  Pawlowski, Georg, Dr. ,  Scheunemann, Ude, Dr.

    IPC分类号： G02F1/35

    CPC分类号： G02F1/3618 ,  B82Y20/00 ,  G02F1/3616

    摘要： Ein optisches Bauelement (100), enthält ein für elektromagnetische Strahlung durchlässiges polymeres Medium mit einer Suszeptibilität zweiter Ordnung von mindenstens 10- 9 elektrostatischen Einheiten, wobei dieses polymere Medium Verbindungen mit polar ausgerichteten, nichtzentrosymmetrischen molekularen Dipolen enthält, die als Strukturelement, einen Elektronenakzeptor aufweisen, der über ein konjugiertes n-Elektronen-system an einen Elektrodendonor gebunden ist, wodurch eine Oszillation des molaren Dipols zwischen einem Grundzustand mit einem ersten Dipolmoment und einem elektronisch angeregten Zustand mit einem zweiten, vom ersten verschiedenen Dipolmoment, möglich ist, und ist dadurch gekennzeichnet, daß das polymere Medium alternierend aus mindestens je einem Langmuir-Blodgett-Film mindestens zweier unterschiedlicher, nicht ionischer, nichtlineare optische Eigenschaften aufweisender Polymere besteht (103).
    Das erfindungsgemäße optische Bauelement zeigt neben einer hohen mechanischen und chemischen Stabilität ausgezeichnete nichtlineare optische Eigenschaften, z.B. Frequenzverdopplung.

    摘要翻译： 光学部件（100）包含聚合物介质，其对电磁辐射是透明的，并且具有至少10 -9个静电单元的二阶易感性。 该聚合物介质包含具有极性取向的非中心对称分子偶极子的化合物，其具有作为结构元件的电子受体，其通过共轭π电子系统与电子给体结合。 结果，摩尔偶极子可以在具有第一偶极矩的基本状态和具有与第一偶极矩不同的第二偶极矩的电子激发状态之间振荡。 光学组件的特征在于，聚合物介质至少在每种情况下由至少两种具有不同的非离子非线性光学性质的聚合物（103）的朗缪尔 - 布洛杰特（Langmuir-Blodgett）薄膜交替组成。 除了高的机械和化学稳定性之外，根据本发明的光学部件显示出优异的非线性光学性质，例如， 倍频。

    Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
    3.
    发明公开
    Negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial 失效
    负性工作辐射敏感混合物，由此制得的辐射敏感记录材料。

    公开(公告)号：EP0525625A1

    公开(公告)日：1993-02-03

    申请号：EP92112559.7

    申请日：1992-07-22

    申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Pawlowski, Georg, Dr. ,  Dammel, Ralph, Dr. ,  Röschert, Horst, Dr. ,  Meier, Winfried, Dipl.-Ing. ,  Spiess, Walter, Dr. ,  Przybilla, Klaus-Jürgen, Dr.

    IPC分类号： G03F7/029

    CPC分类号： C04B41/5035 ,  G03F7/0295 ,  Y10S430/124

    摘要： Die Erfindung betrifft ein negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit

    a) einer Verbindung, die mindestens eine -CBr 3 Gruppe, gebunden an ein Atom, das nicht seinerseits mit einem Wasserstoffatom verbunden ist,
    b) einem alkoxymethylierten Melamin und
    c) einem in Wasser unlöslichen, in wäßrig-alkalischen Lösungen löslichen oder zumindest quellbaren polymeren Bindemittel mit phenolischen OH-Gruppen,

    das dadurch gekennzeichnet ist, daß

    (1) es bei 248 nm eine Absorption ―1 aufweist,
    (2) die CBr 3 -Gruppe der Verbindung a) an das Schwefelatom einer Sulfonylgruppe gebunden und die Verbindung a) in einer Menge von 0,2 bis 10 Gew.-%, bezogen auf die Gesamtmenge der Komponenten b) und c), im Gemisch enthalten ist,
    (3) das Massenverhältnis der Komponenten b) und c) zwischen 50 : 50 und 5 : 95 liegt und
    (4) die Komponente c) ein Homo- oder Copolymer des Hydroxystyrols oder eines Derivats davon ist, wobei das Homo- oder Copolymer in einem wäßrig-alkalischen, 2,38 Gew.-% Tetramethylammoniumhydroxid enthaltenden Entwickler bei 21°C eine Abtragsrate von 200 bis 3000 nm/min aufweist.

    摘要翻译： 本发明涉及负型含一个），其本身不键合到氢原子含有原子键合到至少一个-CBr3组中的所有的化合物，b）至烷氧基甲基化蜜胺辐射敏感混合物，和c）聚合物粘合剂含 酚OH基团，其不溶于水，但可溶于或至少可溶胀于水基碱性溶液，这是DASS（1）它具有在248nm的<0.4微米<-1>的吸收，（2）的 CBR3基化合物a的）结合到磺酰基和化合物A）的硫原子是在按重量计从0.2％至10％的量存在于混合物中，基于组分的总量b）和c） （3）由b组分的重量比）和c）是在50：95，以及（4）组分c）是均聚物或羟基苯乙烯的共聚物或其衍生物，其中所述均聚物或共聚物具有：和5 50 从200至3000纳米/分的材料去除速率在21℃下在wässrige碱性显影剂 重量氢氧化四甲铵的38％：含有2。 ñ

    Strahlungsempfindliches Gemisch, das als Bindemittel neue Polymere mit Einheiten aus Amiden von alpha,beta-ungesättigten Carbonsäuren enthält
    4.
    发明公开
    Strahlungsempfindliches Gemisch, das als Bindemittel neue Polymere mit Einheiten aus Amiden von alpha,beta-ungesättigten Carbonsäuren enthält 失效
    一种辐射敏感的混合物，其包含作为具有α，β-不饱和羧酸的酰胺的单元粘合剂的新聚合物。

    公开(公告)号：EP0519297A2

    公开(公告)日：1992-12-23

    申请号：EP92109651.7

    申请日：1992-06-09

    申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Przybilla, Klaus-Jürgen, Dr. ,  Pawlowski, Georg, Dr. ,  Röschert, Horst, Dr.

    IPC分类号： C07C233/27 ,  C08F20/58 ,  G03F7/039

    CPC分类号： G03F7/039 ,  C07C233/27 ,  C08F20/58 ,  Y10S430/107 ,  Y10S430/111

    摘要： Die Erfindung betrifft ein strahlungsempfindliches Gemisch, das ein polymeres Bindemittel mit säurespaltbaren Seitengruppen und eine bei Bestrahlung eine starke Säure bildende Verbindung enthält sowie neue Amide von α,β-ungesättigten Carbonsäuren, mit denen die als Bindemittel verwendeten Polymere aufgebaut werden.
    Außerdem betrifft die Erfindung ein positiv bzw. negativ arbeitendes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial mit einem Träger und einer darauf befindlichen positiv oder negativ arbeitenden Schicht, die das erfindungsgemäße strahlungsempfindliche Gemisch enthält.

    摘要翻译： 本发明涉及一种包括具有酸可拆卸侧向基团的聚合物粘合剂和形成在照射时强酸的化合物的放射线敏感性组合物，和与α的新颖酰胺，β-不饱和羧酸从哪家用作聚合物 粘合剂构成。 因此本发明涉及到一个更积极的或负性工作由......组成，其上有位于其中包含辐射敏感混合物gemäß发明一个更积极的或负性工作的涂层的载体的辐射敏感记录材料。

    Säurespaltbare, strahlungsempfindliche Verbindungen, diese enthaltendes strahlungsempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial
    5.
    发明公开
    Säurespaltbare, strahlungsempfindliche Verbindungen, diese enthaltendes strahlungsempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes strahlungsempfindliches Aufzeichnungsmaterial 失效
    含有这些辐射敏感混合物和由其辐射敏感记录材料制成酸可分解，辐射敏感的化合物。

    公开(公告)号：EP0510444A1

    公开(公告)日：1992-10-28

    申请号：EP92106140.4

    申请日：1992-04-09

    申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Pawlowski, Georg, Dr. ,  Dammel, Ralph, Dr. ,  Röschert, Horst, Dr. ,  Spiess, Walter, Dr. ,  Eckes, DI Charlotte

    IPC分类号： C07C309/73 ,  G03F7/039

    CPC分类号： C07C309/65 ,  C07C309/66 ,  C07C309/73 ,  C07C309/74 ,  C07C309/75 ,  C07C309/77 ,  C07C2601/14 ,  C07C2602/28 ,  C07C2602/44 ,  C07C2603/68 ,  G03F7/039 ,  Y10S430/115 ,  Y10S430/12 ,  Y10S430/126

    摘要： Es wird ein strahlungsempfindliches Gemisch beschrieben, das Sulfonsäurederivate der allgemeinen Formel I

    enthält, worin

    R¹ einen Alkyl-, Halogenalkyl- oder Arylrest,
    R² ein Wasserstoffatom, einen Alkyl-, Alkenyl- oder Arylrest oder die Gruppe (R¹-SO₂-O-) n X-,
    R³ eine Cycloalkylendialkyl-, Cycloalkenylendialkyl-, Arylendialkyl- oder Heteroylendialkylgruppe, eine Alkylen-, Alkenylen-, Alkinylen-, Cycloalkylen- oder Arylengruppe bedeutet,
    X eine mit 1 bis 3 Sulfonyloxygruppen R¹-SO₂-O-substituierte Alkyl-, Cycloalkyl- oder Arylgruppe,
    Y O, S, CO, CO-O, SO₂, SO₂-O, NR⁴, CO-NH, O-CO-NR⁵, NH-CO-NR⁵ oder NR⁵-CO-O,
    Z O, CO-NR⁶, O-CO-NR⁶ oder NH-CO-NR⁶,
    R⁴ einen Acylrest,
    R⁵ ein Wasserstoffatom, einen Alkyl-, Cycloalkyl, Alkenyl-, Alkinyl- oder Arylrest,
    R⁶ einen Alkyl-, Cycloalkyl, Alkenyl-, Alkinyl- oder Arylrest,
    k eine ganze Zahl von 0 bis 4,
    m eine ganze Zahl größer als 1 und
    n eine ganze Zahl von 1 bis 3
    bedeuten, wobei R³ und Y in sich wiederholenden Gruppierungen (R³-Y-) gleiche oder unterschiedliche Bedeutungen haben können.
    Die Verbindungen bilden bei Bestrahlung Sulfonsäuren und sind durch diese spaltbar. Sie ergeben in Kombination mit alkalilöslichen Bindemitteln positiv arbeitende Gemische, die insbesondere in Aufzeichnungsmaterialien für UV-Strahlung und energiereiche Strahlung Verwendung finden. Die Materialien zeichnen sich durch hohe Auflösung in Verbindung mit hohem Bildkontrast und hervorragender Lagerfähigkeit aus.

    摘要翻译： 一种辐射敏感混合物，描述了包含通式I 其中R <1>表示在烷基，卤代烷基或芳基，R的磺酸衍生物<2>表示氢原子的烷基，链烯基或芳基 自由基或基团（R <1> -SO 2 O-）N X，R <3>表示cycloalkylenedialkyl，cycloalkenylenedialkyl，arylenedialkyl或heteroylenedialkyl基，表示在亚烷基，亚烯基，亚炔基，或亚芳基亚环烷基，X为烷基， 环烷基或芳基R <1> -SO 2 O-取代的1至3个基团磺酰，Y表示O，S，CO，CO-O，SO 2，SO 2 - O，NR <4> CO-NH，O CO-NR <5>，NH-CO-NR <5>或NR <5> -CO-O，Z表示O，CO-NR <6> O-CO-NR <6>或NH-CO-NR <6>，R <4>表示在酰基，R <5>表示氢原子，或烷基，环烷基，烯基，炔基或芳基，R <6>表示在烷基，环烷基，烯基，炔基或芳 基团，k表示0〜4的整数，m表示大于1的整数，n表示1〜3，其中R <3>和Y的C整数 成具有重复基团的相同或不同的含义（R <3> -Y-）。 上照射，该化合物形成磺酸和可以通过合成手段裂解。 与碱溶性粘合剂组合，他们给正工作的混合物，其被使用，特别是，在记录材料为UV辐射和高能辐射。 该材料通过在具有高的图像对比度和出色的保存性组合高分辨率区分。

    Polyvinylacetal, dieses enthaltendes lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial
    7.
    发明公开
    Polyvinylacetal, dieses enthaltendes lichtempfindliches Gemisch und daraus hergestelltes Aufzeichnungsmaterial 失效
    聚乙烯醇缩醛，由此生产该含光敏组合物和记录材料。

    公开(公告)号：EP0274075A2

    公开(公告)日：1988-07-13

    申请号：EP87118277.0

    申请日：1987-12-10

    申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Pawlowski, Georg, Dr.

    IPC分类号： C08F8/28 ,  G03C1/00 ,  G03F7/00

    CPC分类号： G03F7/033 ,  C08F8/48 ,  C09D129/14 ,  G03F7/0125 ,  G03F7/021 ,  G03F7/0233 ,  Y10S430/11 ,  C08F8/28 ,  C08F16/06

    摘要： Es wird ein Polyvinylacetal beschrieben, das 4 bis 40 mol-% Vinylalkohol-, 1 bis 20 mol-% Vinylacetat-, 0 bis 85 mol-% Vinylacetaleinheiten aus einem von OH-­Gruppen freien und 1 bis 85 mol-% Vinylacetaleinheiten aus einem OH-Gruppen enthaltenden Aldehyd enthält. Das Polymere ist als Bindemittel für lichtempfindliche Gemische, insbesondere für die Herstellung von Druck­platten und Photoresists, geeignet. Die damit erhalte­nen Schichten lassen sich mit neutralen oder schwach alkalischen rein wäßrigen Lösungen entwickeln und ergeben Druckplatten mit hoher Auflagenleistung und guter Farbannahme.

    摘要翻译： 上述聚乙烯醇缩醛含有4至40摩尔％的乙烯醇单元的，从1到20摩尔％的醋酸乙烯酯单元，0〜85摩尔％的自醛，不含有OH基团衍生的乙烯醇缩醛单元和从 1〜85摩尔％的自醛，含OH基的衍生乙烯醇缩醛单元。 该聚合物适合作为光敏混合物用于生产印刷板和光致抗蚀剂构成的粘合剂，尤其如此。 使用该聚合物获得的涂层可以用中性或微碱性，纯粹wässrige解决方案和给印版哪些是适合长时间印刷过程，并且具有良好的油墨接受来开发。

    Ethylenisch ungesättigte Phosphinsäure- oder Thiophosphinsäureisocyanate bzw. -isothiocyanate und Verfahren zu ihrer Herstellung
    8.
    发明公开
    Ethylenisch ungesättigte Phosphinsäure- oder Thiophosphinsäureisocyanate bzw. -isothiocyanate und Verfahren zu ihrer Herstellung 失效
    烯属不饱和膦酸或Thiophosphinsäureisocyanate或异硫氰酸和它们的制备方法。

    公开(公告)号：EP0244747A2

    公开(公告)日：1987-11-11

    申请号：EP87106211.3

    申请日：1987-04-29

    申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Gerdau, Thomas, Dr. ,  Kleiner, Hans-Jerg, Dr. ,  Pawlowski, Georg, Dr.

    IPC分类号： C07F9/36

    CPC分类号： C07F9/36

    摘要： Es werden Verbindungen der allgemeinen Formel I
    beschrieben, worin

    X und Y  gleich oder verschieden sind und Sauerstoff oder Schwefel bedeuten,
    R₁  ein ethylenisch ungesättigter aliphatischer Rest mit 2 bis 6 C-Atomen und
    R₂  ein gesättigter aliphatischer Rest mit 1 bis 6 C-Atomen oder ein Arylrest mit 6 bis 10 C-Atomen

    ist. Die Verbindungen sind Zwischenprodukte für die Herstellung von lichtvernetzbaren Polymeren mit seiten­ständigen (Thio)phosphinyl(thio)urethan- oder (Thio)­phosphinyl(thio)harnstoffgruppen.

    摘要翻译： 通式中描述了式I化合物<图像>其中，X和Y相同或不同，代表氧或硫，R 1是碳原子数为2〜6，R 2是饱和的脂族基团具有1至6℃的烯属不饱和脂族基团 是-atoms或具有芳基为6〜10个碳原子。 该化合物可用于具有侧挂（硫代）氧膦基（硫代）氨基甲酸酯或（硫代）氧膦基（硫代）脲基光交联性聚合物的制备中间体。

    Mit Silikonen kompatible Photoinitiatoren und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische
    9.
    发明公开
    Mit Silikonen kompatible Photoinitiatoren und diese enthaltende lichtempfindliche Gemische 失效

    公开(公告)号：EP0705865A1

    公开(公告)日：1996-04-10

    申请号：EP95115059.8

    申请日：1995-09-25

    申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT

    发明人： Niesert, Claus-Peter, Dr. ,  Pawlowski, Georg, Dr. ,  Gries, Dr. Willi-Kurt ,  Przybilla, Klaus-Jürgen, Dr.

    IPC分类号： C08G77/14 ,  C07F7/18 ,  C07F7/08 ,  C08F2/50

    CPC分类号： C07F7/0854 ,  C07F7/1836 ,  C08F2/50 ,  C08G77/382 ,  G03F7/075 ,  Y10S522/904 ,  Y10S522/905

    摘要： Es werden Verbindungen der allgemeinen Formel I

            (SIL - X-) m IN     (I),

    worin

    SIL ein Rest der Formel Si(R¹)(R²)(R³)
    wobei

    R¹ ein Alkyl-, Halogenalkyl- oder Alkoxyrest mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, ein Alkenylrest, ein Alkenyloxy- oder Acyloxyrest mit 2 bis 8 Kohlenstoffatomen, ein Aryl- oder Aryloxyrest mit 6 bis 10 Kohlenstoffatomen, ein Dialkyl-, Diaryl- oder Alkylaryl-methylenaminooxyrest mit C₁-C₄-Alkyl- oder C₆-Arylgruppen ist und
    R² und R³ gleiche oder verschiedene Reste der Bedeutung von R¹ oder X - IN sind
    X C n H 2n ,
    IN der Rest einer als Photoinitiator bzw. Photosensibilisator wirksamen Verbindung mit mindestens einer an einem aromatischen Kern stehenden Carbonylgruppe,
    m eine Zahl von 1 bis 4 und
    n eine Zahl von 2 bis 12 bedeutet,
    oder der allgemeinen Formel II

            Si o O o-1 (-X-IN) p R⁴ 2o+2-p      (II)

    vorgeschlagen, worin

    R⁴ ein Rest der Bedeutung von R¹ ist und mehrere R⁴ untereinander gleich oder verschieden sein können,
    o eine Zahl von 2 bis 20000 und
    p eine Zahl von 1 bis o ist,
    und die Symbole X und IN die vorstehend angegebene Bedeutung haben,
    wobei die Gruppe X an ein zur Carbonylgruppe von IN orthoständiges aromatisches Kohlenstoffatom gebunden ist.
    Die Verbindungen werden durch Umsetzen einer Verbindung IN - H mit einer Verbindung SIL - X' oder einer Verbindung Si o O o-1 (-X') p R⁴ 2o+2-p in Gegenwart einer Rutheniumverbindung hergestellt. Sie sind als radikalbildende Photoinitiatoren oder als Photosensibilisatoren in Silikonen enthaltenden photopolymerisierbaren Gemischen, insbesondere für die Herstellung wasserlos druckender Flachdruckplatten, geeignet.

    摘要翻译： CPDS。 的式（SIL-X-）mIN（I）SioO0-1（-X-IN）pR 4 + 20-p（II）（其中SIL = Si（R 1）（R 2） （R 3）; R 1 = 1-8C烷基，卤代烷基或烷氧基，2-8C烯基，烯氧基或酰氧基，6-10C芳基或芳氧基，或具有1-4C烷基的二烷基，二芳基或烷芳基 - 亚甲基氨基氧基 或6C芳基; R 2，R 3 = R 1或X-IN; X = C n H 2n; IN =具有≥1个具有羰基gp的芳环的光引发剂或光敏剂; m = 1-4; n = 2-12; R 4 = R 1; o = 2-20000; p = 0-1;其中X和邻位芳族gp的1N的羰基gp结合）。 还声称是制作的过程。 的cpds; 和光敏混合物。 contg。 式（III）或（IV）（其中R 5，R 6，R 7 = H，卤素，苯基，苄基，苯甲酰基，1-12C烷基，5-6C 环烷基或OR 12，SR 12，SO 2 R 15，SOR 15，-N（R 13）（R 14），NH-SO 2 -R 15或-NHCOR R 8，R 9 = H，1-12C烷基，2-12C烯基，5-6C环烷基，7-9C芳烷基，OR 12，CH 2 -OR 12或N（ R 13）（R 14）;或形成5-6单元脂环族环; R 10 = H，OR 12或6-8C芳基;其中R 8，R 9和 R 10与它们所键合的C原子一起形成选择取代基苯环，不能同时为H或甲基; R 11 = X-SIL或R 7; 12> = H，1-12C烷基，5-6C环烷基或2-13C烷酰基; R 13，R 14 = H，1-12C烷基，5-6C环烷基或5-6元杂环， O，S或N; R 15 = 1-12C烷基或6-10C芳基; Y = O，S，NR 12，CH 2，CO或简单键）。 一个cpd 的式IN-H（V）与cpd反应。 SIL-X（VI）或SioO0-1（X 1）pR 4 + 20 + 2-p（VII）。