发明授权
- 专利标题： Method and apparatus for correcting defects of x-ray mask
- 专利标题（中）： 用于校正X射线掩模缺陷的方法和装置
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申请号： EP88110937.5申请日： 1988-07-08
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公开(公告)号： EP0298495B1公开(公告)日： 1993-10-06
- 发明人: Yamaguchi, Hiroshi , Saito, Keiya , Koizumi, Mitsuyoshi , Shimase, Akira , Haraichi, Satoshi , Miyauchi, Tateoki , Kuniyoshi, Shinji , Aiuchi, Susumu
- 申请人： HITACHI, LTD.
- 申请人地址： 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 JP
- 专利权人： HITACHI, LTD.
- 当前专利权人： HITACHI, LTD.
- 当前专利权人地址： 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo 100 JP
- 代理机构： Beetz & Partner Patentanwälte
- 优先权： JP170905/87 19870710
- 主分类号： G03F1/00
- IPC分类号： G03F1/00
公开/授权文献
- EP0298495A3 Method and apparatus for correcting defects of x-ray mask 公开/授权日：1989-09-27
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