发明公开
- 专利标题： Charged-particle beam apparatus
- 专利标题（中）： Korpuskularstrahlgerät。
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申请号： EP88202232.0申请日： 1988-10-06
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公开(公告)号： EP0314216A1公开(公告)日： 1989-05-03
- 发明人: Van der Mast, Karel Diederick
- 申请人： Philips Electronics N.V.
- 申请人地址： Groenewoudseweg 1 5621 BA Eindhoven NL
- 专利权人： Philips Electronics N.V.
- 当前专利权人： Philips Electronics N.V.
- 当前专利权人地址： Groenewoudseweg 1 5621 BA Eindhoven NL
- 代理机构： Scheele, Edial François
- 优先权： NL8702570 19871029
- 主分类号： H01J37/30
- IPC分类号： H01J37/30
摘要：
A charged-particle beam apparatus comprises a beam splitting/alignment system whereby individual beams or groups of individual beams can be independently aligned so that they can be brought out of focus in a focal plane of the individual beams, so that a beam limiting diaphragm arranged at that area is irradiated more uniformly with a smaller beam loss.
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