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EP0319350A2 Method of and photomask for manufacturing optical memory element 失效
Verfahren und Photomaske zur Herstellung eines optischen Speicherelementes。

Method of and photomask for manufacturing optical memory element
摘要：
A method of and a photomask (15) for manufacturing an optical memory element. The manufacturing method in­cludes the steps of: subjecting a positive type photoresist (20) coated on a glass substrate (19) to exposure by using the photomask (15) capable of irradiating light onto a portion of the photoresist (20) other than the remaining portion for forming pits (21) of the glass substrate (19) such that the portion of the photoresist (20) is solubilized against developing solution; developing the photoresist (20) by using the developing solution so as to remove the portion of the photoresist (20); and etching the glass substrate (19) so as to directly form, as convex portions, the pits (21) on a surface of the glass substrate (19).
摘要（中）：

一种用于制造光学存储元件的光掩模（15）的方法和光掩模。 该制造方法包括以下步骤：通过使用能够将光照射到除了剩余的光致抗蚀剂（20）的一部分上的光的光掩模（15），使涂覆在玻璃基板（19）上的正型光致抗蚀剂（20）曝光 用于形成所述玻璃基板（19）的凹坑（21）的部分，使得所述光致抗蚀剂（20）的所述部分与显影液溶解; 通过使用显影溶液来显影光致抗蚀剂（20），以去除光致抗蚀剂（20）的部分; 并且在所述玻璃基板（19）的表面上刻蚀所述玻璃基板（19）以便直接形成所述凹坑（21）作为凸部。

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