发明公开
- 专利标题: Verfahren zum Befestigen von Halbleiterbauelementen auf Substraten und Anordnungen zur Durchführung desselben
- 专利标题(英): Method for attaching semiconductor components to substrates, and arrangement for carrying it out
- 专利标题(中): 用于连接基板的半导体元件的方法及其安装
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申请号: EP89102448.1申请日: 1989-02-13
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公开(公告)号: EP0330896A3公开(公告)日: 1991-01-09
- 发明人: Schwarzbauer, Herbert, Dr.rer.nat.
- 申请人: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- 申请人地址: Wittelsbacherplatz 2 D-80333 München DE
- 专利权人: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人地址: Wittelsbacherplatz 2 D-80333 München DE
- 优先权: DE3806980 19880303
- 主分类号: H01L21/603
- IPC分类号: H01L21/603
摘要:
Zum Befestigen von Halbleiterbauelementen (3), insbesondere Leistungshalbleitern, auf Substraten (1) wird ein Diffusionsschweißverfahren angegeben, bei dem die zu verbindenden Flächen, die mit einer Edelmetall-Kontaktierungsschicht versehen sind, bei gemäßigter Temperatur von etwa 150 bis 250°C mit mindestens 500 kp/cm² zusammengepreßt werden. Bauelemente (3) mit strukturierter Oberseite können mit Substraten verbunden werden, wenn sie gemeinsam mit einem Körper (17, 18) aus elastisch verformbarem Material, z.B. Silikonkautschuk, in eine durch einen bewegbaren Stempel (21) abgeschlossene, den Anpressdruck übertragende Aufnahmekammer (15a, 15b, 21) eingelegt werden, wobei der deformierbare Körper (17, 18) beim Erreichen des Anpressdrucks den verbleibenden Innenraum der Aufnahmekammer vollständig ausfüllt.
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