发明公开

  • 专利标题: Verfahren zum Befestigen von Halbleiterbauelementen auf Substraten und Anordnungen zur Durchführung desselben
  • 专利标题(英): Method for attaching semiconductor components to substrates, and arrangement for carrying it out
  • 专利标题(中): 用于连接基板的半导体元件的方法及其安装
  • 申请号: EP89102448.1
    申请日: 1989-02-13
  • 公开(公告)号: EP0330896A3
    公开(公告)日: 1991-01-09
  • 发明人: Schwarzbauer, Herbert, Dr.rer.nat.
  • 申请人: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
  • 申请人地址: Wittelsbacherplatz 2 D-80333 München DE
  • 专利权人: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
  • 当前专利权人: SIEMENS AKTIENGESELLSCHAFT
  • 当前专利权人地址: Wittelsbacherplatz 2 D-80333 München DE
  • 优先权: DE3806980 19880303
  • 主分类号: H01L21/603
  • IPC分类号: H01L21/603
Verfahren zum Befestigen von Halbleiterbauelementen auf Substraten und Anordnungen zur Durchführung desselben
摘要:
Zum Befestigen von Halbleiterbauelementen (3), insbesondere Leistungshalbleitern, auf Substraten (1) wird ein Diffusions­schweißverfahren angegeben, bei dem die zu verbindenden Flä­chen, die mit einer Edelmetall-Kontaktierungsschicht ver­sehen sind, bei gemäßigter Temperatur von etwa 150 bis 250°C mit mindestens 500 kp/cm² zusammengepreßt werden. Bauelemente (3) mit strukturierter Oberseite können mit Substraten verbun­den werden, wenn sie gemeinsam mit einem Körper (17, 18) aus elastisch verformbarem Material, z.B. Silikonkautschuk, in eine durch einen bewegbaren Stempel (21) abgeschlossene, den Anpress­druck übertragende Aufnahmekammer (15a, 15b, 21) eingelegt wer­den, wobei der deformierbare Körper (17, 18) beim Erreichen des Anpressdrucks den verbleibenden Innenraum der Aufnahmekammer vollständig ausfüllt.
信息查询
0/0