发明公开
- 专利标题： Positiv arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch auf Basis von säurespaltbaren und photochemisch säurebildenden Verbindungen und Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern und Reliefbildern
- 专利标题（英）： Light photosensitive positive compounds obtained from cleavable and photochemical acid compounds and process for obtaining relief patterns and images
- 专利标题（中）： 从可清除和光化学酸化合物获得的光敏感阳性化合物和获得缓解图案和图像的方法
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申请号： EP89105918.0申请日： 1989-04-05
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公开(公告)号： EP0337257A3公开(公告)日： 1990-08-29
- 发明人: Schwalm, Reinhold, Dr. , Binder, Horst , Schuhmacher, Rudolf, Dr.
- 申请人： BASF Aktiengesellschaft
- 申请人地址： Carl-Bosch-Strasse 38 67063 Ludwigshafen DE
- 专利权人： BASF Aktiengesellschaft
- 当前专利权人： BASF Aktiengesellschaft
- 当前专利权人地址： Carl-Bosch-Strasse 38 67063 Ludwigshafen DE
- 优先权： DE3812326 19880414
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004
摘要：
Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch und ein Verfahren zur Herstellung von Reliefbildern. Das strahlungsempfindliche Gemisch enthält
(a) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches oder zumindest dispergierbares polymeres Bindemittel und (b) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung, sowie zusätzlich eine weitere Gruppierung, die unter der Einwirkung von Strahlung eine starke Säure erzeugt, enthält, wobei das polymere Bindemittel (a) aus einem Gemisch aus einem phenolischen Polymerisat und einem Harz vom Novolaktyp besteht. Das erfindungsgemäße Gemisch eignet sich insbesondere zur Herstellung von Photoresisten.
(a) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches oder zumindest dispergierbares polymeres Bindemittel und (b) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung, sowie zusätzlich eine weitere Gruppierung, die unter der Einwirkung von Strahlung eine starke Säure erzeugt, enthält, wobei das polymere Bindemittel (a) aus einem Gemisch aus einem phenolischen Polymerisat und einem Harz vom Novolaktyp besteht. Das erfindungsgemäße Gemisch eignet sich insbesondere zur Herstellung von Photoresisten.
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