发明公开
EP0342498A2 Positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche Gemische sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern
失效
正和负性工作辐射敏感混合物以及用于制造浮雕图案的方法。
- 专利标题： Positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche Gemische sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern
- 专利标题（英）： Light-sensitive negative or positive composition, and process for the formation of relief patterns
- 专利标题（中）： 正和负性工作辐射敏感混合物以及用于制造浮雕图案的方法。
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申请号： EP89108375.0申请日： 1989-05-10
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公开(公告)号： EP0342498A2公开(公告)日： 1989-11-23
- 发明人: Schwalm, Reinhold, Dr. , Binder, Horst
- 申请人： BASF Aktiengesellschaft
- 申请人地址： Carl-Bosch-Strasse 38 D-67063 Ludwigshafen DE
- 专利权人： BASF Aktiengesellschaft
- 当前专利权人： BASF Aktiengesellschaft
- 当前专利权人地址： Carl-Bosch-Strasse 38 D-67063 Ludwigshafen DE
- 优先权： DE3817012 19880519
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/039
摘要：
Die Erfindung betrifft positiv und negativ arbeitende strahlungsempfindliche Gemische sowie Verfahren zur Herstellung von Reliefmustern.
Diese strahlungsempfindlichen Gemische enthalten ein polymeres Bindemittel und eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung enthält, sowie eine zusätzliche Gruppierung, die unter Einwirkung von Strahlung eine starke Säure bildet, wobei als polymere Bindemittel Umsetzungsprodukte aus phenolische Hydroxylgruppen enthaltenden Polymeren mit Dihydropyran oder Alkylvinylethern eingesetzt werden.
Diese strahlungsempfindlichen Gemische eignen sich insbesondere zur Herstellung von Reliefmustern.
Diese strahlungsempfindlichen Gemische enthalten ein polymeres Bindemittel und eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung enthält, sowie eine zusätzliche Gruppierung, die unter Einwirkung von Strahlung eine starke Säure bildet, wobei als polymere Bindemittel Umsetzungsprodukte aus phenolische Hydroxylgruppen enthaltenden Polymeren mit Dihydropyran oder Alkylvinylethern eingesetzt werden.
Diese strahlungsempfindlichen Gemische eignen sich insbesondere zur Herstellung von Reliefmustern.
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