发明公开
- 专利标题： Antistatische und elektrisch leitende Reliefbilder, Verfahren zu deren Herstellung, Beschichtungsmittel und strahlungsempfindliche Polymere
- 专利标题（英）： Antistatic and electrically conductive relief images, process for manufacturing the same, coating material and radiation-sensitive polymers
- 专利标题（中）： 防静电和导电浮雕图像，它们的制备过程中，包衣剂和辐射敏感的聚合物。
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申请号： EP89810720.6申请日： 1989-09-21
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公开(公告)号： EP0362143A2公开(公告)日： 1990-04-04
- 发明人: Finter, Jürgen, Dr. , Hilti, Bruno, Dr. , Mayer, Carl W. , Minder, Ernst
- 申请人： CIBA-GEIGY AG
- 申请人地址： Klybeckstrasse 141 4002 Basel CH
- 专利权人： CIBA-GEIGY AG
- 当前专利权人： CIBA-GEIGY AG
- 当前专利权人地址： Klybeckstrasse 141 4002 Basel CH
- 优先权： CH3646/88 19880930
- 主分类号： H01B1/12
- IPC分类号： H01B1/12
摘要：
Substrate, die mit einer Mischung aus einem strahlungsempfindlichen organischen Material, einem gegebenenfalls substituierten Tetrathio-, Tetraseleno- oder Tetratelluronaphthalin und/oder -tetracen und einer aktive CI-, Br- und/oder I-Atome enthaltenden Substanz beschichtet sind, bilden unter Einwirkung von thermischer Energie strahlungsempfindliche Schichten mit elektrisch leitenden Charge-Transferkomplexen. Die Bestrahlung unter einer Bildmaske und nachfolgende Entwicklung ergibt antistatische oder elektrisch leitende Reliefbilder, die z.B. als Elektroden bzw. leitende Verbindungen für elektronische Bauteile verwendet werden können.
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