发明公开
- 专利标题: GROWTH OF SEMICONDUCTOR SINGLE CRYSTALS
- 专利标题(中): 育种半导体单晶晶体。
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申请号: EP88905927.0申请日: 1988-06-27
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公开(公告)号: EP0366698A1公开(公告)日: 1990-05-09
- 发明人: HURLE, Donald, Thomas, James , JOYCE, Gordon, Charles , MCKELL, Kathryn, Elizabeth
- 申请人: The National Research Development Corporation
- 申请人地址: 101 Newington Causeway London SE1 6BU GB
- 专利权人: The National Research Development Corporation
- 当前专利权人: The National Research Development Corporation
- 当前专利权人地址: 101 Newington Causeway London SE1 6BU GB
- 代理机构: Beckham, Robert William
- 优先权: GB19870015327 19870630
- 国际公布: WO1989000211 19890112
- 主分类号: C30B15
- IPC分类号: C30B15
摘要:
Procédé et appareil permettant de développer un monocristal de GaAs, etc. utilisant les techniques de Czochralski. On obtient le diamètre voulu du cristal (1) au moyen d'un système de régulation à boucle fermée (9, 10, 24, 7, 6) faisant varier la température de fusion (4), en réponse à des signaux (9) W ou dW/dt de poids du cristal. L'invention injecte un signal St (22, 26) de test dans la boucle de régulation, et procède à un traitement (21) de signaux, par exemple par corrélation croisée, sur le signal test St et sur le signal de poids du cristal. L'amplitude maximum des valeurs de corrélation est relative à la forme du cristal croissant, et est utilisée par comparaison avec les valeurs de référence (24) pour commander la phase de croissance à partir du diamètre (16) du germe, jusqu'au diamètre intégral du cristal (1).
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