发明授权
- 专利标题： Neue, strahlungsempfindliche Verbindungen, hiermit hergestelltes strahlungsempfindliches Gemisch und Aufzeichnungsmaterial
- 专利标题（英）： Light-sensitive compounds, preparation of a light-sensitive mixture therewith and a recording material
- 专利标题（中）： 新辐射敏感的化合物，在此产生的辐射敏感混合物和记录材料。
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申请号： EP89119883.0申请日： 1989-10-26
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公开(公告)号： EP0369219B1公开(公告)日： 1995-01-04
- 发明人: Scheler, Siegfried, Dr. Dipl.-Chem. , Buhr, Gerhard, Dr. Dipl.-Chem. , Lenz, Helmut, Dipl.-Ing. , Bergmann, Klaus , Siegel, Herbert, Dr. Dipl.-Chem.
- 申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 申请人地址： 65926 Frankfurt am Main DE
- 专利权人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人地址： 65926 Frankfurt am Main DE
- 优先权： DE3837500 19881104
- 主分类号： G03F7/022
- IPC分类号： G03F7/022 ; C07C309/26
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