发明公开
- 专利标题: Verfahren zur Herstellung eines Musters
- 专利标题(英): Process for making a pattern
- 专利标题(中): 制作图案的过程
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申请号: EP89810888.1申请日: 1989-11-21
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公开(公告)号: EP0371924A3公开(公告)日: 1990-10-31
- 发明人: Banks, Christopher Paul, Dr. , Irving, Edward, Dr.
- 申请人: CIBA-GEIGY AG
- 申请人地址: Klybeckstrasse 141 4002 Basel CH
- 专利权人: CIBA-GEIGY AG
- 当前专利权人: CIBA-GEIGY AG
- 当前专利权人地址: Klybeckstrasse 141 4002 Basel CH
- 代理机构: Sharman, Thomas
- 优先权: GB8827847 19881129
- 主分类号: H05K3/34
- IPC分类号: H05K3/34 ; G03F7/00 ; G03F7/11
摘要:
Ein Verfahren zur Herstellung eines Musters aus einem elektrisch leitfähigen Material, gekennzeichnet durch
(i) galvanisches Abscheiden eines Filmes enthaltend ein photohärtbares organisches Harz auf eine elektrisch leitende Oberfläche, (ii) Ausbilden eines vorbestimmten Musters eines Resists auf dem galvanisch abgeschiedenen Film, welches beim Belichten mit aktinischen Strahlen mit den darunterliegenden Bereichen des galvanisch abgeschiedenen Filmes zusammengehärtet wird, und wobei vorbestimmte Bereiche des galvanisch abgeschiedenen Filmes vom Resist unbedeckt bleiben. (iii) Entfernen der unbedeckten Bereiche des galvanisch abgeschiedenen Filmes durch Behandeln mit einem Lösungsmittel dafür, wobei eine Oberfläche entsteht, die in vorbestimmten Bereichen freiliegendes leitfähiges Material aufweist und in anderen vorbestimmten Bereichen den photogehärteten Resist enthält, der durch den dazwischenliegenden, in bestimmten Bereichen galvanisch abgeschiedenen Film fest mit dem leitfähigen Material verbunden ist. Das Verfahren ist zur Herstellung von gedruckten Schaltungen geeignet.
(i) galvanisches Abscheiden eines Filmes enthaltend ein photohärtbares organisches Harz auf eine elektrisch leitende Oberfläche, (ii) Ausbilden eines vorbestimmten Musters eines Resists auf dem galvanisch abgeschiedenen Film, welches beim Belichten mit aktinischen Strahlen mit den darunterliegenden Bereichen des galvanisch abgeschiedenen Filmes zusammengehärtet wird, und wobei vorbestimmte Bereiche des galvanisch abgeschiedenen Filmes vom Resist unbedeckt bleiben. (iii) Entfernen der unbedeckten Bereiche des galvanisch abgeschiedenen Filmes durch Behandeln mit einem Lösungsmittel dafür, wobei eine Oberfläche entsteht, die in vorbestimmten Bereichen freiliegendes leitfähiges Material aufweist und in anderen vorbestimmten Bereichen den photogehärteten Resist enthält, der durch den dazwischenliegenden, in bestimmten Bereichen galvanisch abgeschiedenen Film fest mit dem leitfähigen Material verbunden ist. Das Verfahren ist zur Herstellung von gedruckten Schaltungen geeignet.
公开/授权文献
- EP0371924A2 Verfahren zur Herstellung eines Musters 公开/授权日:1990-06-06
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