发明授权
- 专利标题： Mask, mask producing method and pattern forming method using mask
- 专利标题（中）： 掩模的制造工艺和布图具有这样的掩模
-
申请号： EP90304571.4申请日： 1990-04-26
-
公开(公告)号： EP0395425B1公开(公告)日： 1996-10-16
- 发明人: Kawabata, Toshiaki , Nakagawa, Kenji , Yamaguchi, Seiichiro , Taguchi, Masao , Sumi, Kazuhiko , Yanagishita, Yuichiro
- 申请人： FUJITSU LIMITED
- 申请人地址： 1015, Kamikodanaka, Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kanagawa 211 JP
- 专利权人： FUJITSU LIMITED
- 当前专利权人： FUJITSU LIMITED
- 当前专利权人地址： 1015, Kamikodanaka, Nakahara-ku Kawasaki-shi, Kanagawa 211 JP
- 代理机构： Fane, Christopher Robin King
- 优先权： JP111675/89 19890428; JP206837/89 19890811; JP26623/90 19900206
- 主分类号： G03F1/14
- IPC分类号： G03F1/14
公开/授权文献
信息查询
