发明公开
- 专利标题： METHOD FOR OBTAINING TRANSVERSE UNIFORMITY DURING THIN FILM DEPOSITION ON EXTENDED SUBSTRATE
- 专利标题（中）： 在扩展基板上薄膜沉积时获得横向均匀性的方法
-
申请号： EP89902473申请日： 1989-02-09
-
公开(公告)号： EP0401255A4公开(公告)日： 1991-04-03
- 发明人: MEYER, STEPHEN, F.
- 申请人： SOUTHWALL TECHNOLOGIES, INC.
- 申请人地址： 1029 CORPORATION WAY; PALO ALTO CALIFORNIA 94303
- 专利权人： SOUTHWALL TECHNOLOGIES, INC.
- 当前专利权人： SOUTHWALL TECHNOLOGIES, INC.
- 当前专利权人地址： 1029 CORPORATION WAY; PALO ALTO CALIFORNIA 94303
- 优先权： US15515388 1988-02-11
- 主分类号： C23C14/34
- IPC分类号： C23C14/34 ; C23C14/00 ; C23C14/54 ; C23C14/56
信息查询
IPC分类:
