利索-全球专利检索

  1. 登录
  2. 注册
发明公开
EP0404221A2 Method of and apparatus for measuring lattice constant ratio 失效
Verfahren und Vorrichtung zur Messung desGitterkonstantenverhältnisses。

  • 专利标题： Method of and apparatus for measuring lattice constant ratio
  • 专利标题（中）： Verfahren und Vorrichtung zur Messung desGitterkonstantenverhältnisses。
  • 申请号： EP90201498.4
    申请日： 1990-06-11
  • 公开(公告)号： EP0404221A2
    公开(公告)日： 1990-12-27
  • 发明人: Maruyama, Hiromu
  • 申请人： Philips Electronics N.V.
  • 申请人地址： Groenewoudseweg 1 5621 BA Eindhoven NL
  • 专利权人： Philips Electronics N.V.
  • 当前专利权人： Philips Electronics N.V.
  • 当前专利权人地址： Groenewoudseweg 1 5621 BA Eindhoven NL
  • 代理机构： Bakker, Hendrik
  • 优先权： JP152208/89 19890616
  • 主分类号： G01N23/207
  • IPC分类号： G01N23/207 ;  G01N23/20
Method of and apparatus for measuring lattice constant ratio
摘要：
The invention discloses a method and an apparatus for measuring lattice spacings in particular of a single crystal during the grow thereof by vapour deposition whilst located in a heating furnace.
摘要（中）：

本发明公开了一种用于在位于加热炉中时通过气相沉积在其生长期间测量单晶的晶格间距的方法和装置。

公开/授权文献
信息查询
Global Dossier Espacenet
0/0