发明授权
- 专利标题： Perimeter wafer seal with gas exclusion
- 专利标题（中）： 周边密封通过气体注入半导体晶片。
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申请号： EP91303628.1申请日： 1991-04-23
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公开(公告)号： EP0456372B1公开(公告)日： 1995-03-22
- 发明人: Schmitz, John , Chow, Raymond L. , Scholz, Frederick J. , Turner, Norman L. , Uher, Frank Otto
- 申请人： GENUS, INC.
- 申请人地址： 515 Ellis Street Mt. View California 94043 US
- 专利权人： GENUS, INC.
- 当前专利权人： GENUS, INC.
- 当前专利权人地址： 515 Ellis Street Mt. View California 94043 US
- 代理机构： Wright, Peter David John
- 优先权： US512809 19900423
- 主分类号： H01L21/00
- IPC分类号： H01L21/00
公开/授权文献
- EP0456372A1 Perimeter wafer seal with gas exclusion 公开/授权日：1991-11-13
信息查询
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