发明授权
- 专利标题： Charged particle beam apparatus
- 专利标题（中）： 带电粒子射线装置
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申请号： EP91109941.4申请日： 1991-06-18
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公开(公告)号： EP0462554B1公开(公告)日： 2000-10-11
- 发明人: Matsui, Hironobu , Ichihashi, Mikio , Ueda, Shinjiroo , Otaka, Tadashi , Takahashi, Kazue
- 申请人： HITACHI, LTD.
- 申请人地址： 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo JP
- 专利权人： HITACHI, LTD.
- 当前专利权人： HITACHI, LTD.
- 当前专利权人地址： 6, Kanda Surugadai 4-chome Chiyoda-ku, Tokyo JP
- 代理机构： Altenburg, Udo, Dipl.-Phys.
- 优先权： JP15966390 19900620; JP15966490 19900620; JP17521490 19900704; JP21157990 19900813
- 主分类号： H01J37/28
- IPC分类号： H01J37/28 ; H01J37/12 ; H01J37/04 ; H01J37/18 ; H01J49/06
公开/授权文献
- EP0462554A3 Charged particle beam apparatus 公开/授权日：1992-06-24
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