发明授权
EP0501294B1 Strahlungsempfindliche Polymere mit 2-Diazo-1,3-dicarbonyl-Gruppen, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung in einem positiv arbeitenden Aufzeichnungsmaterial
失效
与2-重氮基-1,3-二羰基团，处理A辐射敏感的聚合物及其制备方法和使用在正性工作的记录材料。
- 专利标题： Strahlungsempfindliche Polymere mit 2-Diazo-1,3-dicarbonyl-Gruppen, Verfahren zu deren Herstellung und Verwendung in einem positiv arbeitenden Aufzeichnungsmaterial
- 专利标题（英）： Radiation-sensitive polymers with 2-diazo-1,3-dicarbonyl groups, process for its production and its use in a positive-working recording material
- 专利标题（中）： 与2-重氮基-1,3-二羰基团，处理A辐射敏感的聚合物及其制备方法和使用在正性工作的记录材料。
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申请号： EP92102734.8申请日： 1992-02-19
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公开(公告)号： EP0501294B1公开(公告)日： 1994-10-26
- 发明人: Röschert, Horst, Dr. , Merrem, Hans-Joachim, Dr. , Pawlowski, Georg, Dr. , Fuchs, Jürgen , Dammel, Ralph, Dr.
- 申请人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 申请人地址： 65926 Frankfurt am Main DE
- 专利权人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人： HOECHST AKTIENGESELLSCHAFT
- 当前专利权人地址： 65926 Frankfurt am Main DE
- 优先权： DE4106357 19910228
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039
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