发明公开
EP0520265A3 Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit Disulfonsäurespendern
失效
具有疏水性酸性发生器的正性工作辐射敏感组合物
- 专利标题： Positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch mit Disulfonsäurespendern
- 专利标题（英）： Positive working radiation-sensitive composition with disulfone acid generators
- 专利标题（中）： 具有疏水性酸性发生器的正性工作辐射敏感组合物
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申请号： EP92109980.0申请日： 1992-06-13
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公开(公告)号： EP0520265A3公开(公告)日： 1993-09-22
- 发明人: Schwalm, Reinhold, Dr. , Binder, Horst , Funhoff, Dirk, Dr. , Roser, Joachim, Dr. , Funhoff, Angelika, Dr.
- 申请人： BASF Aktiengesellschaft
- 申请人地址： Carl-Bosch-Strasse 38 D-67063 Ludwigshafen DE
- 专利权人： BASF Aktiengesellschaft
- 当前专利权人： BASF Aktiengesellschaft
- 当前专利权人地址： Carl-Bosch-Strasse 38 D-67063 Ludwigshafen DE
- 优先权： DE4121199 19910627
- 主分类号： G03F7/039
- IPC分类号： G03F7/039 ; G03F7/004
摘要：
Die Erfindung betrifft ein positiv arbeitendes strahlungsempfindliches Gemisch, enthaltend
(a1) ein säurelabile Ether-, Ester- oder Carbonatgruppen enthaltendes organisches Bindemittel, oder (a2) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches polymeres Bindemittel und (a2.1) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, oder (a2.2) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung sowie zusätzlich eine Gruppierung, die unter Einwirkung von Strahlung eine starke Säure bildet, enthält oder ein Gemisch der organischen Verbindungen (a2.1) und (a2.2) und (b) ein Disulfon der allgemeinen Formel
R¹-SO₂-SO₂-R²
worin R¹ und R² für, gegebenenfalls substituiertes, Alkyl, Cycloalkyl, Aryl, Aralkyl oder Heteroaryl mit bis zu 12 Kohlenstoffatomen stehen. Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefmustern.
(a1) ein säurelabile Ether-, Ester- oder Carbonatgruppen enthaltendes organisches Bindemittel, oder (a2) ein in Wasser unlösliches, in wäßrig-alkalischen Lösungen lösliches polymeres Bindemittel und (a2.1) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird, oder (a2.2) eine organische Verbindung, deren Löslichkeit in einem wäßrig-alkalischen Entwickler durch Einwirkung von Säure erhöht wird und die mindestens eine durch Säure spaltbare Gruppierung sowie zusätzlich eine Gruppierung, die unter Einwirkung von Strahlung eine starke Säure bildet, enthält oder ein Gemisch der organischen Verbindungen (a2.1) und (a2.2) und (b) ein Disulfon der allgemeinen Formel
R¹-SO₂-SO₂-R²
worin R¹ und R² für, gegebenenfalls substituiertes, Alkyl, Cycloalkyl, Aryl, Aralkyl oder Heteroaryl mit bis zu 12 Kohlenstoffatomen stehen. Dieses strahlungsempfindliche Gemisch eignet sich zur Herstellung von Reliefmustern.
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