发明授权
- 专利标题： Low-contamination impact tool for breaking silicon
- 专利标题（中）： 冲击工具具有低杂质打破硅。
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申请号： EP92309423.9申请日： 1992-10-15
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公开(公告)号： EP0539097B1公开(公告)日： 1994-11-30
- 发明人: Rice, Daniel Patrick , Ruhlig, Elden Emery , Nemeth, John Dee , Schmidt, Chris Tim
- 申请人： HEMLOCK SEMICONDUCTOR CORPORATION
- 申请人地址： 12334 Geddes Road P.O. Box 187 Hemlock Michigan 48626 US
- 专利权人： HEMLOCK SEMICONDUCTOR CORPORATION
- 当前专利权人： HEMLOCK SEMICONDUCTOR CORPORATION
- 当前专利权人地址： 12334 Geddes Road P.O. Box 187 Hemlock Michigan 48626 US
- 代理机构： Laredo, Jack Joseph
- 优先权： US781476 19911023
- 主分类号： B25D1/02
- IPC分类号： B25D1/02
公开/授权文献
- EP0539097A1 Low-contamination impact tool for breaking silicon 公开/授权日：1993-04-28
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