发明授权
- 专利标题： Gas barrier film and production process thereof
- 专利标题（中）： 气密膜及其制备
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申请号： EP94100978.9申请日： 1994-01-24
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公开(公告)号： EP0608808B1公开(公告)日： 1998-12-02
- 发明人: Tanaka, Hideaki , Oba, Hiroyuki , Hirose, Kazuhiko
- 申请人： KUREHA KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA
- 申请人地址： 1-9-11, Nihonbashi, Horidome-cho Chuo-ku Tokyo 103 JP
- 专利权人： KUREHA KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA
- 当前专利权人： KUREHA KAGAKU KOGYO KABUSHIKI KAISHA
- 当前专利权人地址： 1-9-11, Nihonbashi, Horidome-cho Chuo-ku Tokyo 103 JP
- 代理机构： Weisert, Annekäte, Dipl.-Ing. Dr.-Ing.
- 优先权： JP31404/93 19930127
- 主分类号： C08L29/04
- IPC分类号： C08L29/04 ; C08L33/02 ; C08G81/02 ; B32B27/30
公开/授权文献
- EP0608808A1 Gas barrier film and production process thereof 公开/授权日：1994-08-03
信息查询
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