发明公开
- 专利标题： Resist material and pattern formation
- 专利标题（中）： 抗蚀材料与Herstellung von Mustern
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申请号： EP95301947.8申请日： 1995-03-23
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公开(公告)号： EP0704762A1公开(公告)日： 1996-04-03
- 发明人: Fumiyoshi, Urano, c/o Tokyo Kenkyusho , Takaaki, Negishi, c/o Tokyo Kenkyusho , Katsuyama, Akiko , Endo, Masayuki
- 申请人： WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES LTD , MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.
- 申请人地址： 1-2 Doshomachi-3-chome Chuo-ku Osaka JP
- 专利权人： WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES LTD,MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.
- 当前专利权人： WAKO PURE CHEMICAL INDUSTRIES LTD,MATSUSHITA ELECTRIC INDUSTRIAL CO., LTD.
- 当前专利权人地址： 1-2 Doshomachi-3-chome Chuo-ku Osaka JP
- 代理机构： Baillie, Iain Cameron
- 优先权： JP234246/94 19940902
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004
摘要：
A resist material comprising (a) a terpolymer, (b) a photoacid generator, and (c) a solvent has high light sensitivity, heat resistance, adhesiveness, resolution, etc., and is suitable for forming a pattern of rectangular shape.
公开/授权文献
- EP0704762B1 Resist material and pattern formation 公开/授权日：1999-12-15
信息查询
IPC分类:
