发明公开
EP0725428A2 Thin film multi-layer oxygen diffusion barrier consisting of aluminum on refractory metal
失效
Dünnfilm-Mehrschichtstruktur aus Aluminum aufrefraktäremMetall，die eine Sauerstoff-Diffusionsperre bildet
- 专利标题： Thin film multi-layer oxygen diffusion barrier consisting of aluminum on refractory metal
- 专利标题（中）： Dünnfilm-Mehrschichtstruktur aus Aluminum aufrefraktäremMetall，die eine Sauerstoff-Diffusionsperre bildet
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申请号： EP95120466.8申请日： 1995-12-22
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公开(公告)号： EP0725428A2公开(公告)日： 1996-08-07
- 发明人: Cabral, Cyril, Jr. , Colgan, Evan George , Grill, Alfred
- 申请人： INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
- 申请人地址： Old Orchard Road Armonk, N.Y. 10504 US
- 专利权人： INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
- 当前专利权人： INTERNATIONAL BUSINESS MACHINES CORPORATION
- 当前专利权人地址： Old Orchard Road Armonk, N.Y. 10504 US
- 代理机构： Rach, Werner, Dr.
- 优先权： US372633 19950113
- 主分类号： H01L21/285
- IPC分类号： H01L21/285 ; H01L21/3205 ; H01L23/485
摘要：
The use of a bi-layer thin film structure consisting of aluminum or aluminide on a refractory metal layer as a diffusion barrier to oxygen penetration at high temperatures for preventing the electrical and mechanical degradation of the refractory metal for use in applications such as a capacitor electrode for high dielectric constant materials.
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