发明公开
- 专利标题： METHOD OF MAKING A CHEMICAL-MECHANICAL POLISHING SLURRY AND THE POLISHING SLURRY
- 专利标题（中）： 用于生产化学机械抛光研磨液
-
申请号： EP95938941.0申请日： 1995-10-23
-
公开(公告)号： EP0792515A1公开(公告)日： 1997-09-03
- 发明人: AVANZINO, Steven, C. , WOO, Christy, Mei-Chu , SCHONAUER, Diana, M. , BURKE, Peter, Austin
- 申请人： ADVANCED MICRO DEVICES INC.
- 申请人地址： One AMD Place, Mail Stop 68 Sunnyvale, California 94088-3453 US
- 专利权人： ADVANCED MICRO DEVICES INC.
- 当前专利权人： ADVANCED MICRO DEVICES INC.
- 当前专利权人地址： One AMD Place, Mail Stop 68 Sunnyvale, California 94088-3453 US
- 代理机构： BROOKES & MARTIN
- 优先权： US19940342326 19941118
- 国际公布： WO1996016436 19960530
- 主分类号： C09G1
- IPC分类号： C09G1 ; H01L21
摘要：
A tungsten chemical-mechanical polishing slurry formulated from small median diameter abrasive particles having a very tight diameter variation and by thoroughly premixing the abrasive with a surfactant suspension agent before combining the oxidizer.
信息查询
