发明公开
- 专利标题： Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung mit einem an einem Ende strukturierten Hohlraum
- 专利标题（英）： Process for fabricating a device having a hole at an extremity
- 专利标题（中）： 在腔的端部的制造具有结构化的装置的方法
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申请号： EP98106632.7申请日： 1998-04-09
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公开(公告)号： EP0874251A3公开(公告)日： 2000-02-02
- 发明人: Igel, Günter, Dipl.-Ing. , Mall, Martin, Dr. Dipl.-Phys.
- 申请人： Micronas Intermetall GmbH
- 申请人地址： Hans-Bunte-Strasse 19 79108 Freiburg DE
- 专利权人： Micronas Intermetall GmbH
- 当前专利权人： Micronas Intermetall GmbH
- 当前专利权人地址： Hans-Bunte-Strasse 19 79108 Freiburg DE
- 代理机构： Hornig, Leonore, Dr.
- 优先权： DE19716480 19970419
- 主分类号： B81B3/00
- IPC分类号： B81B3/00 ; G02B6/26 ; G02B6/34 ; G02B6/36
摘要：
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Herstellen einer Vorrichtung mit einem an einem Ende strukturierten Hohlraum 7. In einem Körper wird eine Vertiefung 4 ausgebildet, eine Maskierschicht 5 wird auf die Oberfläche des Körpers und die Vertiefung 4 aufgebracht, wobei die Maskierschicht 5 eine niedrigere Ätzrate als der Körper aufweist und in der Maskierschicht 5 in der Nähe der Vertiefung 4 eine Öffnung 6 ausgebildet wird. Ausgehend von der Öffnung 6 wird der Körper einem isotropen Ätzverfahren unterzogen, bei dem unterhalb der Maskierschicht 5 der Hohlraum 7 erzeugt wird, wobei die Maskierschicht 5 im wesentlichen erhalten bleibt und im Bereich der Vertiefung 4 eine in den Hohlraum 7 hineinragende Struktur 10 bildet.
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