发明公开
EP0971530A3 Fotoplott-Verfahren zur hochenergetischen Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger 有权
Fotoplott方法对于高能量的感光记录介质上记录的计算机存储的光栅图像

  • 专利标题: Fotoplott-Verfahren zur hochenergetischen Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger
  • 专利标题(英): Photoplotting method for high-energy recording of a computer stored raster image on a light sensitive recording medium
  • 专利标题(中): Fotoplott方法对于高能量的感光记录介质上记录的计算机存储的光栅图像
  • 申请号: EP99113136.8
    申请日: 1999-07-07
  • 公开(公告)号: EP0971530A3
    公开(公告)日: 2002-05-29
  • 发明人: Pagan, Robin
  • 申请人: MIVATEC Hard- und Software GmbH
  • 申请人地址: Benzstrasse 17 71101 Schönaich DE
  • 专利权人: MIVATEC Hard- und Software GmbH
  • 当前专利权人: MIVATEC Hard- und Software GmbH
  • 当前专利权人地址: Benzstrasse 17 71101 Schönaich DE
  • 代理机构: Blutke, Klaus Wilhelm, Dipl.-Ing.
  • 优先权: DE19830896 19980710
  • 主分类号: H04N1/195
  • IPC分类号: H04N1/195
Fotoplott-Verfahren zur hochenergetischen Aufzeichnung eines computergespeicherten Rasterbildes auf einen lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger
摘要:
Ein computer-gespeichertes Rasterbild wird mittels eines relativ zu einem lichtempfindlichen Aufzeichnungsträger kontinuierlich verschieblichen einen Lichtmodulator enthaltenden Belichtungskopfes schachbrettfeldweise aufgezeichnet. Durch die anhaltende Relativbewegung würde sich bei einer längeren Belichtungszeit eine verwischte unerwünschte Aufzeichnung ergeben. Dieser Verwischungseffekt wird durch die Verschiebung einer zwischen Aufzeichnungsträger und Belichtungskopf angeordneten zugleich abbildungsmaßstabbestimmenden Linse kompensiert. Vor Aufzeichnung eines neuen Feldes wird die verschobene Linse wieder in eine relative Ausgangsposition für das neue Feld zurückgesetzt, um während der nachfolgenden Aufzeichnung wieder kompensierend verschoben zu werden. Dieses Verfahren gestattet quasi eine Dauerbelichtung mit hoher Aufzeichnungsenergie, insbesondere durch Verwendung von Quecksilber-Bogenlampen und damit auch eine Direktbelichtung von Photo-Resist-Material, wie es z.B. bei der Herstellung gedruckter Leiterplatten verwendet wird.
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