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EP1055414A1 Kosmetische oder dermatologische Lichtschutzzubereitungen mit einem Gehalt an Bornitrid und sulfonierten UV-Filtersubstanzen sowie die Verwendung von Bornitrid zur Stabilisierung von Emulsionen, die einen Gehalt an Elektrolyten, insbesondere einen Gehalt an sulfonierten UV-Filtersubstanzen, aufweisen
有权
含有氮化硼和磺化UV过滤物质和用于稳定乳液，其具有电解质的含量使用氮化硼的化妆品或皮肤病学的防晒制剂，尤其是磺化的UV过滤物质的含量，
- 专利标题： Kosmetische oder dermatologische Lichtschutzzubereitungen mit einem Gehalt an Bornitrid und sulfonierten UV-Filtersubstanzen sowie die Verwendung von Bornitrid zur Stabilisierung von Emulsionen, die einen Gehalt an Elektrolyten, insbesondere einen Gehalt an sulfonierten UV-Filtersubstanzen, aufweisen
- 专利标题（英）： Cosmetic or dermatological photoprotective preparations containing boron nitride and sulfonated UV filters as well as the use of boron nitride to stabilize emulsions containing electrolytes, especially sulfonated UV filters
- 专利标题（中）： 含有氮化硼和磺化UV过滤物质和用于稳定乳液，其具有电解质的含量使用氮化硼的化妆品或皮肤病学的防晒制剂，尤其是磺化的UV过滤物质的含量，
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申请号： EP00109131.3申请日： 2000-05-05
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公开(公告)号： EP1055414A1公开(公告)日： 2000-11-29
- 发明人: Gers-Barlag, Heinrich, Dr. , Müller, Anja
- 申请人： Beiersdorf Aktiengesellschaft
- 申请人地址： Unnastrasse 48 20245 Hamburg DE
- 专利权人： Beiersdorf Aktiengesellschaft
- 当前专利权人： Beiersdorf Aktiengesellschaft
- 当前专利权人地址： Unnastrasse 48 20245 Hamburg DE
- 优先权： DE19923773 19990522
- 主分类号： A61K7/42
- IPC分类号： A61K7/42
摘要：
Kosmetische oder dermatologische Lichtschutzzubereitungen mit einem Gehalt an Bornitrid und sulfonierten UV-Filtersubstanzen sowie die Verwendung von Bornitrid zur Stabilisierung von Emulsionen, die einen Gehalt an Elektrolyten, insbesondere einen Gehalt an sulfonierten UV-Filtersubstanzen, aufweisen.
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