发明授权
- 专利标题： Method and apparatus for exposing a photosensitive material
- 专利标题（中）： 用于曝光感光材料的方法和装置
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申请号： EP99202942.1申请日： 1999-09-09
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公开(公告)号： EP1083460B1公开(公告)日： 2006-03-01
- 发明人: Palmius, Kjell , Hummelink, Janniek
- 申请人： Fuji Photo Film B.V.
- 申请人地址： Oudenstraat 1 5047 TK Tilburg NL
- 专利权人： Fuji Photo Film B.V.
- 当前专利权人： Fuji Photo Film B.V.
- 当前专利权人地址： Oudenstraat 1 5047 TK Tilburg NL
- 代理机构： Prins, Adrianus Willem
- 主分类号： G03C5/02
- IPC分类号： G03C5/02 ; G03C7/18
公开/授权文献
- EP1083460A1 Method and apparatus for exposing a photosensitive material 公开/授权日：2001-03-14
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