发明授权
- 专利标题： Method for depositing a layer on a surface of a substrate
- 专利标题（中）： 一种用于在衬底表面上沉积层的方法
-
申请号： EP01111582.1申请日： 2001-05-11
-
公开(公告)号： EP1158071B1公开(公告)日： 2011-01-19
- 发明人: Rossman, Kent , Li, Zhuang , Lee, Young
- 申请人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 申请人地址： 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 US
- 专利权人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人： APPLIED MATERIALS, INC.
- 当前专利权人地址： 3050 Bowers Avenue Santa Clara, CA 95054 US
- 代理机构： Kirschner, Klaus Dieter
- 优先权： US579822 20000526
- 主分类号： C23C16/44
- IPC分类号： C23C16/44 ; H01L21/00 ; H01L21/316 ; H01L21/762
公开/授权文献
- EP1158071A3 Method for depositing a layer on a surface of a substrate 公开/授权日：2006-07-19
信息查询
IPC分类:
