发明授权
- 专利标题： METHOD AND APPARATUS FOR ARC DEPOSITION
- 专利标题（中）： 方法和装置涂层通过电弧放电
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申请号： EP00907176.2申请日： 2000-02-04
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公开(公告)号： EP1161574B1公开(公告)日： 2003-12-17
- 发明人: IACOVANGELO, Charles, Dominic , BORST, Keith, Milton , JERABEK, Elihu, Calvin , MARZANO, Patrick, Peter , YANG, Barry, Lee-Mean
- 申请人： General Electric Company
- 申请人地址： 1 River Road Schenectady, NY 12345 US
- 专利权人： General Electric Company
- 当前专利权人： General Electric Company
- 当前专利权人地址： 1 River Road Schenectady, NY 12345 US
- 代理机构： Szary, Anne Catherine, Dr.
- 优先权： US271655 19990317
- 国际公布： WO00055388 20000921
- 主分类号： C23C16/50
- IPC分类号： C23C16/50 ; B05B7/22 ; C23C14/22 ; C23C14/24
公开/授权文献
- EP1161574A1 METHOD AND APPARATUS FOR ARC DEPOSITION 公开/授权日：2001-12-12
信息查询
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