发明授权
- 专利标题： Method for producing hydrophobic silica fine powder
- 专利标题（中）： 一种用于生产疏水二氧化硅细粉的方法
-
申请号： EP01307404.2申请日： 2001-08-31
-
公开(公告)号： EP1184425B1公开(公告)日： 2003-10-15
- 发明人: Nozawa, Yasuaki, c/o Gunma Complex , Shirasuna, Kiyoshi, c/o Gunma Complex , Uehara, Hidekazu, c/o Gunma Complex , Shibata, Keiji, c/o Gunma Complex , Ueno, Susumu, c/o Gunma Complex
- 申请人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 申请人地址： 6-1, Otemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo JP
- 专利权人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人： SHIN-ETSU CHEMICAL CO., LTD.
- 当前专利权人地址： 6-1, Otemachi 2-chome Chiyoda-ku Tokyo JP
- 代理机构： Stuart, Ian Alexander
- 优先权： JP2000026227 20000831
- 主分类号： C09C1/30
- IPC分类号： C09C1/30
公开/授权文献
- EP1184425A1 Method for producing hydrophobic silica fine powder 公开/授权日：2002-03-06
信息查询
