- 专利标题： VERFAHREN ZUR REGELUNG VON REAKTIVEN SPUTTERPROZESSEN
- 专利标题（英）： Method for controlling reactive sputtering processes
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申请号： EP01938052.6申请日： 2001-03-27
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公开(公告)号： EP1268872B1公开(公告)日： 2003-09-10
- 发明人: BRINGMANN, Udo , HÖING, Thomas , MALKOMES, Niels , SZYSZKA, Bernd , VERGÖHL, Michael , PÖCKELMANN, Ralf
- 申请人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
- 申请人地址： Hansastrasse 27c 80636 München DE
- 专利权人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
- 当前专利权人： Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V.
- 当前专利权人地址： Hansastrasse 27c 80636 München DE
- 代理机构： Pfenning, Meinig & Partner
- 优先权： DE10015150 20000327
- 国际公布： WO01073151 20011004
- 主分类号： C23C14/00
- IPC分类号： C23C14/00
摘要：
The invention relates to a method for controlling DC, MF or HF excited reactive sputtering processes. The partial pressure of the reactive gas is measured by a μ probe and the reactive gas flow is controlled by means of a conventional flux regulator according to the measuring results thus obtained.
公开/授权文献
- EP1268872B2 VERFAHREN ZUR REGELUNG VON REAKTIVEN SPUTTERPROZESSEN 公开/授权日：2010-01-20
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