发明公开
- 专利标题： Seal device and method for operating the same and substrate processing apparatus comprising a vacuum chamber
- 专利标题（中）： 密封装置中，操作方法及基板处理装置包括真空室
-
申请号： EP03007399.3申请日： 2003-04-02
-
公开(公告)号： EP1350997A3公开(公告)日： 2010-09-08
- 发明人: Shinozaki, Hiroyuki
- 申请人： EBARA CORPORATION
- 申请人地址： 11-1, Haneda Asahi-cho Ohta-ku, Tokyo JP
- 专利权人： EBARA CORPORATION
- 当前专利权人： EBARA CORPORATION
- 当前专利权人地址： 11-1, Haneda Asahi-cho Ohta-ku, Tokyo JP
- 代理机构： Wagner, Karl H.
- 优先权： JP2002103947 20020405; JP2002254082 20020830
- 主分类号： F16J15/40
- IPC分类号： F16J15/40 ; H01L21/00
摘要：
The present invention provides a seal device comprising a sealing passage which allows communication between a first space and a second space, and evacuation lines individually connected to the first space and the sealing passage. A gas feed line for feeding dry gas is connected to the sealing passage.
公开/授权文献
- EP1350997B1 Method for operating a seal device 公开/授权日：2014-10-01
信息查询
IPC分类:
