发明公开
EP1446813A2 REFLEKTIVES ROENTGENMIKROSKOP UND INSPEKTIONSSYSTEM ZUR UNTERSUCHUNG VON OBJEKTEN MIT WELLENLAENGEN 100NM
有权
反光ROENTGENMIKROSKOP的对象与Wellenlaengen = 100NM反射调查
- 专利标题： REFLEKTIVES ROENTGENMIKROSKOP UND INSPEKTIONSSYSTEM ZUR UNTERSUCHUNG VON OBJEKTEN MIT WELLENLAENGEN 100NM
- 专利标题（英）： Reflective x-ray microscope and inspection system for examining objects with wavelengths of= 100nm
- 专利标题（中）： 反光ROENTGENMIKROSKOP的对象与Wellenlaengen = 100NM反射调查
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申请号： EP03740130.4申请日： 2003-05-08
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公开(公告)号： EP1446813A2公开(公告)日： 2004-08-18
- 发明人: MANN, Hans-Jürgen , DINGER, Udo , ULRICH, Wilhelm , REINECKE, Wolfgang , ENGEL, Thomas , ZIBOLD, Axel , HARNISCH, Wolfgang , WEDOWSKI, Marco , PAUSCHINGER, Dieter
- 申请人： Carl Zeiss SMT AG , Carl Zeiss Microelectronic Systems GmbH
- 申请人地址： Carl Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen DE
- 专利权人： Carl Zeiss SMT AG,Carl Zeiss Microelectronic Systems GmbH
- 当前专利权人： Carl Zeiss SMT AG,Carl Zeiss Microelectronic Systems GmbH
- 当前专利权人地址： Carl Zeiss-Strasse 22 73447 Oberkochen DE
- 代理机构： Dr. Weitzel & Partner
- 优先权： DE10220816 20020510; DE10220815 20020510
- 国际公布： WO2003096356 20031120
- 主分类号： G21K7/00
- IPC分类号： G21K7/00 ; G21K1/06
摘要：
The invention relates to a reflective X-ray microscope for examining an object on an object plane wherein the object is illuminated with radiation at a wavelength of
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