发明公开
- 专利标题： PROCEDE DE REALISATION D'UN DISPOSITIF D'IMAGERIE
- 专利标题（英）： Method for producing an imaging device
- 专利标题（中）： 方法一图片经营部DEVICE
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申请号： EP02801106.2申请日： 2002-12-09
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公开(公告)号： EP1451875A2公开(公告)日： 2004-09-01
- 发明人: MONGELLAZ, François DI , LINCOT, Daniel
- 申请人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE , CENTRE NATIONAL DELA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)
- 申请人地址： 31-33, rue de la Fédération 75752 Paris Cédex 15 FR
- 专利权人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE,CENTRE NATIONAL DELA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)
- 当前专利权人： COMMISSARIAT A L'ENERGIE ATOMIQUE,CENTRE NATIONAL DELA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS)
- 当前专利权人地址： 31-33, rue de la Fédération 75752 Paris Cédex 15 FR
- 代理机构： Poulin, Gérard
- 优先权： FR0115911 20011210
- 国际公布： WO2003050875 20030619
- 主分类号： H01L27/146
- IPC分类号： H01L27/146 ; H01L31/18
摘要：
The invention concerns a method for producing an imaging device comprising at least a pixel matrix made of a photon-sensing semiconductor material (43) deposited on a substrate incorporating electronic devices and having metallic surfaces (42), wherein, prior to depositing the semiconductor material (43) on said substrate, a material designed to promote adherence of the semiconductor material is deposited solely on the metallic surfaces (42) of said substrate.
公开/授权文献
- EP1451875B1 PROCEDE DE REALISATION D'UN DISPOSITIF D'IMAGERIE 公开/授权日：2006-10-25
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