发明公开
- 专利标题： ALD APPARATUS AND METHOD
- 专利标题（中）： 装置和方法了分离的ATOM FILMS
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申请号： EP03731983.7申请日： 2003-01-17
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公开(公告)号： EP1466034A1公开(公告)日： 2004-10-13
- 发明人: SNEH, Ofer
- 申请人： Sundew Technologies, LLC
- 申请人地址： 1619 Garnet Street Broomfield, CO 80020 US
- 专利权人： Sundew Technologies, LLC
- 当前专利权人： Sundew Technologies, LLC
- 当前专利权人地址： 1619 Garnet Street Broomfield, CO 80020 US
- 代理机构： Tönhardt, Marion, Dr.
- 优先权： US349634P 20020117
- 国际公布： WO2003062490 20030731
- 主分类号： C23C16/455
- IPC分类号： C23C16/455 ; C23C16/56 ; C23C16/44 ; G05D16/00
摘要：
An apparatus and method for atomic layer deposition with improved efficiency of both chemical dose and purge is presented. The apparatus includes an integrated equipment and procedure for chamber maintenance.
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