发明公开
EP1479056A1 VORRICHTUNG ZUM ABSCHEIDEN DÜNNER SCHICHTEN MIT DRAHTLOSER PROZESSPARAMETER-AUFNAHME
有权
DEVICE FOR薄层与无线过程分离参数RECORD
- 专利标题： VORRICHTUNG ZUM ABSCHEIDEN DÜNNER SCHICHTEN MIT DRAHTLOSER PROZESSPARAMETER-AUFNAHME
- 专利标题（英）： Device for depositing thin layers with a wireless detection of process parameters
- 专利标题（中）： DEVICE FOR薄层与无线过程分离参数RECORD
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申请号： EP03742525.3申请日： 2003-02-15
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公开(公告)号： EP1479056A1公开(公告)日： 2004-11-24
- 发明人: BAUMANN, Peter , STRAUCH, Gerd , SCHUMACHER, Marcus , FRANKEN, Walter
- 申请人： Aixtron AG
- 申请人地址： Kackertstrasse 15-17 52072 Aachen DE
- 专利权人： Aixtron AG
- 当前专利权人： Aixtron AG
- 当前专利权人地址： Kackertstrasse 15-17 52072 Aachen DE
- 代理机构： Grundmann, Dirk, Dr.
- 优先权： DE10207901 20020222
- 国际公布： WO2003071504 20030828
- 主分类号： G08C17/02
- IPC分类号： G08C17/02 ; C30B25/16 ; C23C14/54
摘要：
The invention relates to a device for depositing thin, especially crystalline layers on at least one substrate (1), especially a crystalline substrate. Said device comprises a substrate holder (3) which is rotationally arranged in a reactor housing (2) and at least one sensor (4, 5) for measuring a process parameter and a transferring means for transferring the measured values of the process parameter to an evaluation device. The inventive transfer takes place in a wireless manner. The transmitter (6) is arranged inside the reactor housing (2) and a receiver (7) is arranged outside the reactor housing.
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