发明公开
EP1508164A1 VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES HALBLEITERBAUELEMENTES UND DANACH HERGESTELLTES HALBLEITERBAULELEMENT 审中-公开
方法的半导体元件再发HALBLEITERBAULELEMENT

  • 专利标题: VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES HALBLEITERBAUELEMENTES UND DANACH HERGESTELLTES HALBLEITERBAULELEMENT
  • 专利标题(英): Method for producing a semiconductor component, and semiconductor component produced by the same
  • 专利标题(中): 方法的半导体元件再发HALBLEITERBAULELEMENT
  • 申请号: EP03720479.9
    申请日: 2003-04-16
  • 公开(公告)号: EP1508164A1
    公开(公告)日: 2005-02-23
  • 发明人: BEHAMMER, Dag
  • 申请人: United Monolithic Semiconductors GmbH
  • 申请人地址: Wilhelm-Runge Strasse 11 89081 Ulm DE
  • 专利权人: United Monolithic Semiconductors GmbH
  • 当前专利权人: United Monolithic Semiconductors GmbH
  • 当前专利权人地址: Wilhelm-Runge Strasse 11 89081 Ulm DE
  • 代理机构: Weber, Gerhard, Dipl.-Phys.
  • 优先权: DE10220999 20020511; DE10304722 20030206
  • 国际公布: WO2003096399 20031120
  • 主分类号: H01L21/28
  • IPC分类号: H01L21/28 H01L21/338
VERFAHREN ZUR HERSTELLUNG EINES HALBLEITERBAUELEMENTES UND DANACH HERGESTELLTES HALBLEITERBAULELEMENT
摘要:
The invention relates to a method for producing a gate head which can be precisely scaled and for reducing parasitic capacities, for a semiconductor component comprising an at least approximately T-shaped electrode.
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