发明授权
EP1536285B1 Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition, and pattern forming method using the photosensitive composition
有权
感光性组合物，化合物在该组合物中使用，和使用这样的组合物的图像记录方法
- 专利标题： Photosensitive composition, compound for use in the photosensitive composition, and pattern forming method using the photosensitive composition
- 专利标题（中）： 感光性组合物，化合物在该组合物中使用，和使用这样的组合物的图像记录方法
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申请号： EP04027406.0申请日： 2004-11-18
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公开(公告)号： EP1536285B1公开(公告)日： 2016-01-06
- 发明人: Wada, Kenji , Kodama, Kunihiko
- 申请人： FUJIFILM Corporation
- 申请人地址： 26-30, Nishiazabu 2-chome Minato-ku Tokyo JP
- 专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人地址： 26-30, Nishiazabu 2-chome Minato-ku Tokyo JP
- 代理机构： Hoffmann Eitle
- 优先权： JP2003392790 20031121; JP2004222931 20040730
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/038 ; G03F7/039 ; G03F7/075 ; G03F7/20 ; C07C309/42 ; C07C309/39 ; C07C323/66 ; C07C381/12
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