发明公开
EP1628159A3 Chemical amplification resist composition and pattern-forming method using the same
有权
化学放大型抗蚀剂使用所述组合物形成图案的组合物和方法
- 专利标题： Chemical amplification resist composition and pattern-forming method using the same
- 专利标题（中）： 化学放大型抗蚀剂使用所述组合物形成图案的组合物和方法
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申请号： EP05017956.3申请日： 2005-08-18
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公开(公告)号： EP1628159A3公开(公告)日： 2008-04-16
- 发明人: Tarutani, Shinji , Takahashi, Hyou , Wada, Kenji
- 申请人： FUJIFILM Corporation
- 申请人地址： 26-30, Nishiazabu 2-chome Minato-ku Tokyo JP
- 专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人： FUJIFILM Corporation
- 当前专利权人地址： 26-30, Nishiazabu 2-chome Minato-ku Tokyo JP
- 代理机构： HOFFMANN EITLE
- 优先权： JP2004238040 20040818
- 主分类号： G03F7/004
- IPC分类号： G03F7/004 ; G03F7/039
摘要：
A chemical amplification resist composition comprising (A) a resin increasing the solubility in an alkali developer by the action of an acid, (B) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic ray or radiation, (C) a compound having a fluorine atom and a hydroxyl group, and a pKa value of from 4 to 15, and (D) a solvent, and a pattern-forming method using the same.
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