发明公开
- 专利标题： Lithographic method
- 专利标题（中）： Lfhografisf Verfahren
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申请号： EP06254621.3申请日： 2006-09-04
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公开(公告)号： EP1760531A1公开(公告)日： 2007-03-07
- 发明人: Zaal, Koen Jacobus Johannes Maria , de Kort, Antonius Johannes , de Jong, Frederik Eduard , Goorman, Koen , Menchtchikov, Boris , Pen, Hermen Folken
- 申请人： ASML Netherlands B.V.
- 申请人地址： De Run 6501 5504 DR Veldhoven NL
- 专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人： ASML Netherlands B.V.
- 当前专利权人地址： De Run 6501 5504 DR Veldhoven NL
- 代理机构： Leeming, John Gerard
- 优先权： US218736 20050906; US223209 20050912
- 主分类号： G03F7/20
- IPC分类号： G03F7/20
摘要：
In calibration of overlay performance of an immersion lithographic apparatus, two sets of overlay data are obtained from exposures carried out using normal and reversed meanders. The two data sets can then be used to eliminate effects due to wafer cooling.
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