发明授权
EP1854189B1 HIGH RELIABILITY ETCHED-FACET PHOTONIC DEVICES
有权
HOCHZUVERLÄSSIGEPHOTONISCHE VORRICHTUNGEN MITGEÄTZTENFACETTEN
- 专利标题： HIGH RELIABILITY ETCHED-FACET PHOTONIC DEVICES
- 专利标题（中）： HOCHZUVERLÄSSIGEPHOTONISCHE VORRICHTUNGEN MITGEÄTZTENFACETTEN
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申请号： EP06735363.1申请日： 2006-02-17
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公开(公告)号： EP1854189B1公开(公告)日： 2015-04-08
- 发明人: BEHFAR, Alex, A.
- 申请人： Binoptics Corporation
- 申请人地址： 9 Brown Road Ithaca, New York 14850 US
- 专利权人： Binoptics Corporation
- 当前专利权人： Binoptics Corporation
- 当前专利权人地址： 9 Brown Road Ithaca, New York 14850 US
- 代理机构： Stiel, Jürgen
- 优先权： US653984P 20050218
- 国际公布： WO2006089128 20060824
- 主分类号： H01S5/028
- IPC分类号： H01S5/028 ; H01S5/02 ; H01S5/22 ; H01S5/16 ; H01S5/323 ; G02F1/17
公开/授权文献
- EP1854189A2 HIGH RELIABILITY ETCHED-FACET PHOTONIC DEVICES 公开/授权日：2007-11-14
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