发明授权
- 专利标题： Plasma processing apparatus
- 专利标题（中）： 等离子体处理装置
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申请号： EP07019845.2申请日： 2000-05-25
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公开(公告)号： EP1879213B1公开(公告)日： 2012-03-14
- 发明人: Ohmi, Tadahiro , Hirayama, Masaki
- 申请人： TOKYO ELECTRON LIMITED , Ohmi, Tadahiro
- 申请人地址： 3-6 Akasaka 5-chome Minato-ku Tokyo 107-8481 JP
- 专利权人： TOKYO ELECTRON LIMITED,Ohmi, Tadahiro
- 当前专利权人： TOKYO ELECTRON LIMITED,Ohmi, Tadahiro
- 当前专利权人地址： 3-6 Akasaka 5-chome Minato-ku Tokyo 107-8481 JP
- 代理机构： Tönhardt, Marion
- 优先权： JP18625899 19990526
- 主分类号： H01J37/32
- IPC分类号： H01J37/32
公开/授权文献
- EP1879213A3 Microwave plasma processing apparatus 公开/授权日：2010-05-19
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