PROCESS FOR PRODUCING AN INTERLAYER INSULATING FILM

发明授权

EP1898455B1 PROCESS FOR PRODUCING AN INTERLAYER INSULATING FILM 有权

标题翻译： HERSTELLUNGSPROZESSFÜREINEN FILM ZUR隔离ZWISCHEN SCHICHTEN

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专利标题： PROCESS FOR PRODUCING AN INTERLAYER INSULATING FILM
专利标题（中）： HERSTELLUNGSPROZESSFÜREINEN FILM ZUR隔离ZWISCHEN SCHICHTEN
申请号： EP06766953.1

申请日： 2006-06-20
公开(公告)号： EP1898455B1

公开(公告)日： 2013-05-15
发明人: OHMI, Tadahiro, c/o Tohoku University
申请人： TOHOKU UNIVERSITY , Foundation for Advancement of International Science
申请人地址： 1-1 Katahira 2-chome Aoba-ku Sendai-shi, Miyagi 980-8577 JP
专利权人： TOHOKU UNIVERSITY,Foundation for Advancement of International Science
当前专利权人： TOHOKU UNIVERSITY,Foundation for Advancement of International Science
当前专利权人地址： 1-1 Katahira 2-chome Aoba-ku Sendai-shi, Miyagi 980-8577 JP
代理机构： Glawe, Delfs, Moll
优先权： JP2005179591 20050620
国际公布： WO2006137384 20061228
主分类号： H01L21/316
IPC分类号： H01L21/316 ; H01L21/3205 ; H01L21/768 ; H01L23/52 ; H01L21/312 ; H01L23/498 ; H01L23/532 ; H01L21/02

PROCESS FOR PRODUCING AN INTERLAYER INSULATING FILM

公开/授权文献

EP1898455A1 INTERLAYER INSULATING FILM AND WIRING STRUCTURE, AND PROCESS FOR PRODUCING THE SAME 公开/授权日：2008-03-12

信息查询

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IPC分类:

H	电学
H01	基本电气元件
H01L	半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件（使用半导体器件的测量入G01；一般电阻器入H01C；磁体、电感器、变压器入H01F；一般电容器入H01G；电解型器件入H01G9/00；电池组、蓄电池入H01M；波导管、谐振器或波导型线路入H01P；线路连接器、汇流器入H01R；受激发射器件入H01S；机电谐振器入H03H；扬声器、送话器、留声机拾音器或类似的声机电传感器入H04R；一般电光源入H05B；印刷电路、混合电路、电设备的外壳或结构零部件、电气元件的组件的制造入H05K；在具有特殊应用的电路中使用的半导体器件见应用相关的小类）
H01L21/00	专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21/02	.半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21/04	..至少具有一个跃变势垒或表面势垒的器件，例如PN结、耗尽层、载体集结层
H01L21/18	...器件有由周期表Ⅳ族元素或含有/不含有杂质的AⅢBⅤ族化合物构成的半导体，如掺杂材料
H01L21/30	....用H01L21/20至H01L21/26各组不包含的方法或设备处理半导体材料的（在半导体材料上制作电极的入H01L21/28）
H01L21/31	.....在半导体材料上形成绝缘层的，例如用于掩膜的或应用光刻技术的（密封层入H01L21/56）；以及这些层的后处理；这些层的材料的选择
H01L21/314	......无机层（H01L21/3105，H01L21/32优先）
H01L21/316	.......由氧化物或玻璃状氧化物或以氧化物为基础的玻璃组成的无机层