发明授权
- 专利标题： In Sm OXIDE SPUTTERING TARGET
- 专利标题（中）： IN-SM-OXID，SPUTTERTARGET
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申请号： EP06767071.1申请日： 2006-06-21
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公开(公告)号： EP1905864B1公开(公告)日： 2013-06-12
- 发明人: INOUE, Kazuyoshi , TANAKA, Nobuo , TOMAI, Shigekazu , MATSUBARA, Masato , KAIJO, Akira , YANO, Koki
- 申请人： IDEMITSU KOSAN COMPANY LIMITED
- 申请人地址： 1-1, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0005 JP
- 专利权人： IDEMITSU KOSAN COMPANY LIMITED
- 当前专利权人： IDEMITSU KOSAN COMPANY LIMITED
- 当前专利权人地址： 1-1, Marunouchi 3-chome Chiyoda-ku Tokyo 100-0005 JP
- 代理机构： Gille Hrabal
- 优先权： JP2005207513 20050715; JP2005258740 20050907
- 国际公布： WO2007010702 20070125
- 主分类号： C23C14/08
- IPC分类号： C23C14/08 ; C23C14/34 ; C04B35/00 ; C04B35/50 ; C04B35/645 ; C04B35/626 ; C04B35/01 ; C04B35/457
公开/授权文献
- EP1905864A1 In Sm OXIDE SPUTTERING TARGET 公开/授权日：2008-04-02
信息查询
IPC分类:
