发明授权
- 专利标题： Charged particle beam apparatus and irradiation method
- 专利标题（中）： 带电粒子和辐射方法辐射装置
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申请号： EP08017746.2申请日： 2003-09-10
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公开(公告)号： EP2023373B1公开(公告)日： 2014-04-02
- 发明人: Sato, Mitsugu , Todokoro, Hideo , Ose, Yoichi , Ezumi, Makoto , Arai, Noriaki , Doi, Takashi
- 申请人： Hitachi High-Technologies Corporation
- 申请人地址： 24-14, Nishishinbashi 1-chome Minato-ku Tokyo 105-8717 JP
- 专利权人： Hitachi High-Technologies Corporation
- 当前专利权人： Hitachi High-Technologies Corporation
- 当前专利权人地址： 24-14, Nishishinbashi 1-chome Minato-ku Tokyo 105-8717 JP
- 代理机构： Strehl Schübel-Hopf & Partner
- 优先权： JP2002265842 20020911; JP2003305267 20030828
- 主分类号： H01J37/153
- IPC分类号： H01J37/153
公开/授权文献
- EP2023373A3 Charged particle beam apparatus and irradiation method 公开/授权日：2012-01-25
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