发明公开
- 专利标题： DISPOSITIF ET PROCEDE DE NETTOYAGE D'UN REACTEUR PAR PLASMA
- 专利标题（英）： Cleaning device and cleaning process for a plasma reactor
- 专利标题（中）： 清洁设备和清洁方法等离子体反应器
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申请号： EP07765396.2申请日： 2007-06-13
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公开(公告)号： EP2035597A2公开(公告)日： 2009-03-18
- 发明人: PELLETIER, Jacques Henri , LACOSTE, Ana , BES, Alexandre , BECHU, Stéphane Jean Louis , SIROU, Jérôme
- 申请人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS) , UNIVERSITE JOSEPH FOURIER - Grenoble 1
- 申请人地址： 3, rue Michel Ange 75016 Paris FR
- 专利权人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS),UNIVERSITE JOSEPH FOURIER - Grenoble 1
- 当前专利权人： CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIFIQUE (CNRS),UNIVERSITE JOSEPH FOURIER - Grenoble 1
- 当前专利权人地址： 3, rue Michel Ange 75016 Paris FR
- 代理机构： Texier, Christian
- 优先权： FR0605238 20060613
- 国际公布： WO2007144378 20071221
- 主分类号： C23C16/44
- IPC分类号： C23C16/44 ; B08B7/00
摘要：
The invention concerns a device and a process, the device being a cleaning device utilizing a dry chemical means assisted by plasma from a reactor (10) containing an unwanted deposit on its walls and at least one other polarizable surface (12), characterized in that it comprises means (13, 14) for positively polarizing one or each of the polarizable surfaces relative to the reactor walls maintained at a reference potential.
公开/授权文献
- EP2035597B1 DISPOSITIF ET PROCEDE DE NETTOYAGE D'UN REACTEUR PAR PLASMA 公开/授权日：2012-03-07
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