发明授权
EP2086974B1 DIIMIDE-BASED SEMICONDUCTOR MATERIALS AND METHODS OF PREPARING AND USING THE SAME
有权
ON DIIMIDBASIS半导体材料和方法为他们的应用
- 专利标题： DIIMIDE-BASED SEMICONDUCTOR MATERIALS AND METHODS OF PREPARING AND USING THE SAME
- 专利标题（中）： ON DIIMIDBASIS半导体材料和方法为他们的应用
-
申请号： EP07862121.6申请日： 2007-11-19
-
公开(公告)号： EP2086974B1公开(公告)日： 2013-07-24
- 发明人: FACCHETTI, Antonio , MARKS, Tobin J. , YAN, He
- 申请人： Polyera Corporation
- 申请人地址： 8045 Lamon Avenue Suite 140 Skokie, IL 60077 US
- 专利权人： Polyera Corporation
- 当前专利权人： Polyera Corporation
- 当前专利权人地址： 8045 Lamon Avenue Suite 140 Skokie, IL 60077 US
- 代理机构： D'Arcy, Julia
- 优先权： US859761P 20061117
- 国际公布： WO2008063609 20080529
- 主分类号： H01L51/00
- IPC分类号： H01L51/00
公开/授权文献
信息查询
IPC分类:
